SEC-101 工艺过程监测仪

SEC-101是半导体行业中市场少有的残余气体分析仪 (RGA)，半导体工艺监控系统；它通过经过现场验证的泵送和进气系统以及新传感器和电子设备提供优异的测量速度和灵敏度。

SEC-101是 ALD、CVD、PVD 和蚀刻等新旧半导体工艺的理想 RGA 工艺监控器。

SEC-101旨在为半导体应用提供优异的痕量气体分析，是监控 ALD 和 HDP CVD 等先进工艺的可靠仪器。

原子层工艺需要沉积极薄且均匀的薄膜。工艺优化需要精确控制前体化学剂量。SEC-101测量速度为每秒600个数据点，灵敏度高于行业标准，可以应对原子层沉积工艺的挑战。

SEC-101 是具有高效响应速度的RGA 过程监测器，由于其采用长寿命封闭离子源和可现场更换的电子倍增器，因此能够实现很长的运行时间。为了抵抗蚀刻和 CVD 等应用中的腐蚀性极强的气体，SEC-101 入口采用了耐化学腐蚀的316不锈钢材质，而涡轮泵和前级泵的设计也有效地提高了耐腐蚀性。